TY  - THES 
A3  - Dueñas Carazo, Salvador
AU  - Pisador Cañibano, Carlos
PY  - 2018
UR  - http://uvadoc.uva.es/handle/10324/32054
AB  - El deseo de conseguir dispositivos cada vez más pequeños basados en la
tecnología CMOS (ComplementaryMetal-Oxide-Semiconductor),ha desembocado en algunos problemas como son los niveles de corrientes de fuga.Durante los últimos años, se han realizado...
LA  - spa
KW  - Defectos
KW  - MOS
KW  - Interfaz
KW  - Técnicas
TI  - Técnicas de caracterización de defectos en dieléctricos de alta permitividad en estructuras Metal-Aislante-Semiconductor
M3  - info:eu-repo/semantics/bachelorThesis
ER  -