Gesamtzugriffe

Zugriffe
Molecular dynamics study of stress relaxation during Ge deposition on Si(100) 2×1 substrates787

Dateiabrufe

Descargas

Seleccione un intervalo de tiempo:

VisualizacionesDescargas

Número de visitas en el intervalo

Zugriffe
Molecular dynamics study of stress relaxation during Ge deposition on Si(100) 2×1 substrates200

Número de descargas en el intervalo

Descargas

Visitas

Visitas
Oktober 202525
November 202524
Dezember 20259
Januar 202663
Februar 202613
März 202633
April 202633
Descarga de datos en CSV
 
Gráfico barras
 
Gráfico lí­neas

Zugriffe nach Ländern

Zugriffe
Vereinigte Staaten von Amerika70
China41
Singapur12
Hongkong10
Brasilien10
Südkorea9
Spanien7
Kanada5
Frankreich5
Vietnam5

Zugriffe nach Städten

Zugriffe
Singapore11
Seoul9
Central9
San Jose7
Hamilton5
The Dalles4
Strasbourg3
Hanoi3
Los Angeles2
São Paulo2