RT info:eu-repo/semantics/conferenceObject T1 Comportamiento electroquímico del Cu en el líquido iónico cloruro de 1-butil-3-metil-imidazolio (BMIMCl) sobre Pt. Electrodeposición de películas nanocristalinas de cobre. A1 Barrado Esteban, Enrique A1 Hernández, Prisciliano A1 Rodríguez, José Antonio A1 Castrillejo Hernández, María Yolanda AB El cobre juega un papel estratégico en electrónica, particularmente en la fabricación de circuitos impresos y en las interconexiones entre circuitos, en las cuales el Cu ha ido reemplazando al Al (históricamente el interconector dominante). La formación de capas finas de Cu, continuas y libres de huecos es esencial para la fabricación de interconectores de Cu en microelectrónica.El presente trabajo versa sobre el comportamiento electroquímico de los clorocomplejos de cobre y la electrodeposición de Cu metálico, en un líquido iónico rico en cloruros, cloruro de 1-butil-3-metilimidazolio (BMIMCl), sobre un electrodo de Pt a 343, 353 and 363 K. YR 2015 FD 2015 LK http://uvadoc.uva.es/handle/10324/25889 UL http://uvadoc.uva.es/handle/10324/25889 LA spa NO 8th Meeting of the Mexican Section ECS. VERACRUZ. MEXICO. JULIO 2015 NO Producción Científica DS UVaDOC RD 29-mar-2024