TY  - THES 
A3  - Aboy Cebrián, María
A3  - Santos Tejido, Iván
AU  - Herguedas Alonso, Alicia Estela
PY  - 2020
UR  - http://uvadoc.uva.es/handle/10324/44914
AB  - En este Trabajo Fin de Grado se ha estudiado el dañado producido en la implantación iónica de átomos de silicio en un sustrato de silicio mediante el desarrollo
de un método para analizar el strain generado. Empleando el método de Dinámica
Molecular...
AB  - In this Final Degree Project it has been studied the damage caused by the implantation
of silicon ions in a silicon substrate, through the development of a method
to analyze the strain generated in this process. Using the Classical Molecular...
LA  - spa
KW  - Implantación iónica
KW  - Simulaciones atomísticas
TI  - Estudio de los campos de tensión en zonas dañadas por implantación iónica mediante simulaciones atomísticas
M3  - info:eu-repo/semantics/bachelorThesis
ER  -