TY  - THES 
A3  - Jiménez López, Juan Ignacio
A3  - Dadgostar, Shabnam
A3  - Medina García, Jesús
AU  - Belloso Casuso, Cantia
PY  - 2020
UR  - http://uvadoc.uva.es/handle/10324/44447
AB  - El grabado seco por Plasma Inducido (ICP) permite fabricar estructuras con alta relación de aspecto en semiconductores. En particular, es bastante común fabricar mediante este procedimiento guías de onda y cavidades para los láseres de diodo. En este...
AB  - Inductively Coupled Plasma etching (ICP) permits the fabrication of structures with high aspect ratio in semiconductors. Particularly, it is currently used for the fabrication of waveguides and cavities for diode lasers. We used cathodoluminiscence...
LA  - spa
KW  - Guías de onda
KW  - InP
KW  - Grabado seco
KW  - Catodoluminiscencia
TI  - Estudio mediante catodoluminiscencia del grabado seco sobre InP para fabricar guías de onda
M3  - info:eu-repo/semantics/bachelorThesis
ER  -