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    Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:http://uvadoc.uva.es/handle/10324/19279

    Título
    Local electric field enhancement at the heterojunction region of SiGe/Si axially heterostructured nanowires
    Autor
    Pura Ruiz, José LuisAutoridad UVA
    Director o Tutor
    Martínez Sacristán, ÓscarAutoridad UVA
    Editor
    Universidad de Valladolid. Facultad de CienciasAutoridad UVA
    Año del Documento
    2016
    Titulación
    Máster en Nanociencia y Nanotecnología Molecular
    Zusammenfassung
    En este trabajo se presenta un nuevo fenómeno de amplificación del campo electromagnético en la zona de la heterounión de NWs con heterouniones axiales de SiGe/Si, cuando son iluminados por un haz láser. La distribución del campo electromagnético se detecta por espectroscopía micro Raman, revelando una amplificación de la señal Raman producida en la región de la heterounión. En concreto, para la señal Raman por unidad de volumen producida por la heterounión, se observa una amplificación de en torno a 10 veces con respecto a la señal de los segmentos homogéneos. La reproducibilidad de este efecto se ha corroborado realizando medidas sobre NWs con distinta estructura y composición, e incluso crecidos por diferentes grupos, obteniendo resultados equivalentes. Para explorar la física detrás de este fenómeno se han resuelto las ecuaciones de Maxwell para la interacción luz/NW utilizando elementos finitos (FEM). Para ello se ha diseñado un modelo tridimensional del sistema en estudio, calculando la distribución del campo electromagnético en el interior del NW, y derivando la señal Raman que produciría dicha distribución. El modelo muestra una localización y amplificación del campo electromagnético en la zona de la unión; sin embargo, los valores teóricos no reproducen la amplificación observada experimentalmente, lo que sugiere la existencia de un mecanismo más complejo que la simple interacción de la luz con un NW dieléctrico. En una versión mejorada del modelo se incluye el efecto de los portadores fotogenerados sobre la respuesta óptica del NW, consiguiendo una mayor amplificación y logrando reproducir los valores experimentales. La presencia de estos portadores fotoinducidos se ha comprobado realizando medidas sobre NWs de Si cuya superficie ha sido modificada por ataque químico. La modificación de la estructura de la superficie induce un cambio en la dinámica de portadores, que se reflejaría en una variación de la señal Raman. Los resultados obtenidos reproducen de manera satisfactoria el comportamiento que preveía la teoría al considerar presencia de portadores fotogenerados.
    Materias (normalizadas)
    Campos electromagnéticos
    Tratamiento de señales
    Departamento
    Departamento de Física de la Materia Condensada, Cristalografía y Mineralogía
    Idioma
    eng
    URI
    http://uvadoc.uva.es/handle/10324/19279
    Derechos
    openAccess
    Aparece en las colecciones
    • Trabajos Fin de Máster UVa [7034]
    Zur Langanzeige
    Dateien zu dieser Ressource
    Nombre:
    TFM-G557.pdf
    Tamaño:
    4.748Mb
    Formato:
    Adobe PDF
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