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    Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:https://uvadoc.uva.es/handle/10324/65354

    Título
    Four Current Examples of Characterization of Silicon Carbide
    Autor
    Bai, S.
    Ke, Yue
    Shishkin, Y.
    Shigiltchoff, O.
    Devaty, R. P.
    Choyke, W. J.
    Strauch, D.
    Stojetz, B.
    Dorner, B.
    Hobgood, D.
    Cardona, M.
    Nagasawa, H.
    Kimoto, T.
    Porter, L. M.
    Serrano Gutiérrez, JorgeAutoridad UVA Orcid
    Año del Documento
    2003
    Editorial
    Cambridge University Press
    Documento Fuente
    Mat. Res. Soc. Symp. Proc. Vol. 742, K.3.1.1 (2003)
    Resumo
    A description is given of the profiling of CVD grown 3C SiC on undulant (001) Si using low temperature photoluminescence (LTPL). Inelastic neutron scattering (INS) and X-ray Raman scattering (XRS) are compared for acoustical modes of 4H SiC. Schottky barrier heights are obtained for 4H and 6H SiC on different crystal faces using three different measuring techniques. Scanning electron microscopy (SEM) is used to display a variety of porous SiC morphologies achieved in n-type and p-type SiC. This paper is intended to be the introduction to the “CHARACTERIZATION” section of this volume. To serve this purpose we illustrate the subject matter with new results using four distinct experimental techniques.
    ISSN
    0272-9172
    Revisión por pares
    SI
    DOI
    10.1557/PROC-742-K3.1
    Idioma
    eng
    URI
    https://uvadoc.uva.es/handle/10324/65354
    Tipo de versión
    info:eu-repo/semantics/publishedVersion
    Derechos
    openAccess
    Aparece en las colecciones
    • DEP32 - Artículos de revista [284]
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    Arquivos deste item
    Nombre:
    proc-742-k3.1.pdf
    Tamaño:
    982.8Kb
    Formato:
    Adobe PDF
    Descripción:
    Artículo en PDF
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    Universidad de Valladolid

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