Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:https://uvadoc.uva.es/handle/10324/71197
Título
Characterization of nanowires for qubit fabrication based on Silicon technology using Raman spectroscopy
Autor
Director o Tutor
Año del Documento
2024
Titulación
Máster en Física
Resumo
The advancement of quantum computing facilities necessitates the scalable development of reliable
qubit platforms, which is currently at the forefront of research efforts by major industrial
players such as Google, Amazon, and Intel. One of the most promising strategies to address
this challenge involves adapting current silicon nanoelectronics chip technology to meet the requirements
for semiconductor qubit fabrication. This adaptation utilizes either electron or hole
spin-orbit coupling in semiconductors, along with gates to control, read, and manipulate spin
states electrically.
This approach demands state-of-the-art fabrication processes that meticulously control the
roughness, strain, doping, and positioning of semiconductor nanowires, two-dimensional semiconductor
and oxide layers, and metallic gates.
In this Master’s thesis, we report a micro-Raman investigation of silicon nanowires and chips
within the framework of a Spanish national research program aimed at developing the first
Spanish scalable qubit fabrication platform based on silicon technologies, in collaboration with
the Barcelona Microelectronics Institute - CSIC.
To achieve this, hyperspectral maps and spectral profiles were obtained using two different laser
wavelengths on both polycrystalline and monocrystalline silicon nanowire layers deposited on a
single-crystal silicon substrate covered with thermal oxide. In all cases, the Raman spectrum
is dominated by the signal from the silicon substrate, presenting a challenge in identifying the
characteristics of the silicon nanowire, which are of interest for this project.
A careful combination of polarization studies and intentional laser heating of the uppermost
layer, along with a unique fitting strategy developed in Python during this Master’s thesis,
provided a method to characterize the main features of the nanowire layer with submicron
resolution. This method represents the primary result of the current thesis and will be applied
in the future to analyze further steps in the quest for the fabrication of scalable semiconductor
qubit platforms. El avance de las instalaciones de computación cuántica requiere el desarrollo escalable de plataformas
de qubits fiables, que actualmente está en la vanguardia de los esfuerzos de investigación
de los principales actores industriales como Google, Amazon e Intel. Una de las estrategias
más prometedoras para afrontar este reto consiste en adaptar la actual tecnología de chips nanoelectrónicos de silicio para cumplir los requisitos de fabricación de qubits semiconductores.
Esta adaptación utiliza el acoplamiento espín-órbita de electrones o huecos en semiconductores,
junto con puertas para controlar, leer y manipular eléctricamente los estados de espín. Este
enfoque exige rigurosos procesos de fabricación de última generación que controlen meticulosamente
la rugosidad, la deformación, el dopaje y la posición de nanohilos semiconductores, las
capas bidimensionales semiconductoras y de diversos óxidos y las puertas metálicas.
En este trabajo de fin de máster, presentamos una investigación micro-Raman de nanohilos y
chips de silicio en el marco de un programa nacional español de investigación destinado a desarrollar
la primera plataforma española de fabricación escalable de qubits basada en tecnologías
de silicio, en colaboración con el Instituto de Microelectrónica de Barcelona - CSIC.
Para ello, se obtuvieron mapas hiperespectrales y perfiles espectrales utilizando dos longitudes
de onda laser diferentes sobre capas de nanohilos de silicio policristalino y monocristalino depositadas
sobre un sustrato de silicio monocristalino recubierto de óxido térmico. En todos los
casos, el espectro Raman está dominado por la señal procedente del sustrato de silicio, lo que
supone un desafío a la hora de identificar las características del nanohilo de silicio, que son de
interés para este proyecto.
Una cuidadosa combinación de estudios de polarización y calentamiento láser intencionado de la
capa superior, junto con una estrategia de ajuste singular desarrollada en Python durante esta
tesis de máster, proporcionó un método para obtener las principales características de la capa
de nanohilos con una resolución submicrométrica. Este método representa el principal resultado
de la presente tesis y se aplicará en el futuro para analizar nuevos pasos en la búsqueda de la
fabricación de plataformas de qubits semiconductores escalables.
Palabras Clave
Raman spectroscopy
Qubits
Silicon nanowires
Departamento
Departamento de Física de la Materia Condensada, Cristalografía y Mineralogía
Idioma
eng
Derechos
openAccess
Aparece en las colecciones
- Trabajos Fin de Máster UVa [6579]
Arquivos deste item
Exceto quando indicado o contrário, a licença deste item é descrito como Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional