Mostrar el registro sencillo del ítem
| dc.contributor.author | Barrado Esteban, Enrique | |
| dc.contributor.author | Hernández, Prisciliano | |
| dc.contributor.author | Rodríguez, José Antonio | |
| dc.contributor.author | Castrillejo Hernández, María Yolanda | |
| dc.date.accessioned | 2017-09-25T09:35:34Z | |
| dc.date.available | 2017-09-25T09:35:34Z | |
| dc.date.issued | 2015 | |
| dc.identifier.citation | 8th Meeting of the Mexican Section ECS. VERACRUZ. MEXICO. JULIO 2015 | es |
| dc.identifier.uri | http://uvadoc.uva.es/handle/10324/25889 | |
| dc.description | Producción Científica | es |
| dc.description.abstract | El cobre juega un papel estratégico en electrónica, particularmente en la fabricación de circuitos impresos y en las interconexiones entre circuitos, en las cuales el Cu ha ido reemplazando al Al (históricamente el interconector dominante). La formación de capas finas de Cu, continuas y libres de huecos es esencial para la fabricación de interconectores de Cu en microelectrónica. El presente trabajo versa sobre el comportamiento electroquímico de los clorocomplejos de cobre y la electrodeposición de Cu metálico, en un líquido iónico rico en cloruros, cloruro de 1-butil-3-metilimidazolio (BMIMCl), sobre un electrodo de Pt a 343, 353 and 363 K. | es |
| dc.format.mimetype | application/vnd.ms-powerpoint | es |
| dc.language.iso | spa | es |
| dc.rights.accessRights | info:eu-repo/semantics/openAccess | es |
| dc.title | Comportamiento electroquímico del Cu en el líquido iónico cloruro de 1-butil-3-metil-imidazolio (BMIMCl) sobre Pt. Electrodeposición de películas nanocristalinas de cobre. | es |
| dc.type | info:eu-repo/semantics/conferenceObject | es |
| dc.title.event | 8th Meeting of the Mexican Section ECS. VERACRUZ. MEXICO. JULIO 2015 | es |
| dc.description.project | Ministerio de Ciencia e Innovación (España), Proyecto CTQ2010-19912, y Junta de Castilla y León proyecto VA171U14 | es |
