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Título
Optical and structural characterisation of epitaxial nanoporous GaN grown by CVD
Autor
Año del Documento
2017
Editorial
IOP Publishing
Descripción
Producción Científica
Documento Fuente
Nanotechnology, 2017, Volume 28, Number 37, 375701
Resumen
In this paper we study the optical properties of nanoporous gallium nitride (GaN) epitaxial layers grown by chemical vapour deposition on non-porous GaN substrates, using photoluminescence, cathodoluminescence, and resonant Raman scattering, and correlate them with the structural characteristic of these films. We pay special attention to the analysis of the residual strain of the layers and the influence of the porosity in the light extraction. The nanoporous GaN epitaxial layers are under tensile strain, although the strain is progressively reduced as the deposition time and the thickness of the porous layer increases, becoming nearly strain free for a thickness of 1.7 μm. The analysis of the experimental data point to the existence of vacancy complexes as the main source of the tensile strain.
Palabras Clave
Materiales porosos
porous materials
Nitruro de galio nanoporoso (GaN)
Nanoporous gallium nitride (GaN) epitaxial layers
ISSN
0957-4484
Revisión por pares
SI
Patrocinador
Ministerio de Economía, Industria y Competitividad (Projects No. TEC2014-55948-R and MAT2016-75716-C2-1-R (AEI/FEDER, UE)
Junta de Castilla y León (programa de apoyo a proyectos de investigación – Ref. Projects VA293U13 and VA081U16)
Comisión Interministerial de Ciencia y Tecnología (Proyect CICYT MAT2010-20441-C02)
Ministerio de Economía, Industria y Competitividad (Projects No.ENE2014-56069-C4-4-R)
Junta de Castilla y León (programa de apoyo a proyectos de investigación – Ref. Projects VA293U13 and VA081U16)
Comisión Interministerial de Ciencia y Tecnología (Proyect CICYT MAT2010-20441-C02)
Ministerio de Economía, Industria y Competitividad (Projects No.ENE2014-56069-C4-4-R)
Version del Editor
Propietario de los Derechos
© 2017 IOP Publishing Ltd
Idioma
eng
Derechos
openAccess
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