Skip navigation
Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem: http://uvadoc.uva.es/handle/10324/25889
Título: Comportamiento electroquímico del Cu en el líquido iónico cloruro de 1-butil-3-metil-imidazolio (BMIMCl) sobre Pt. Electrodeposición de películas nanocristalinas de cobre.
Autor: Barrado, Enrique
Hernández, Prisciliano
Rodríguez, José Antonio
Castrillejo, Yolanda
Congreso: 8th Meeting of the Mexican Section ECS. VERACRUZ. MEXICO. JULIO 2015
Año del Documento: 2015
Descripción: Producción Científica
Documento Fuente: 8th Meeting of the Mexican Section ECS. VERACRUZ. MEXICO. JULIO 2015
Resumen: El cobre juega un papel estratégico en electrónica, particularmente en la fabricación de circuitos impresos y en las interconexiones entre circuitos, en las cuales el Cu ha ido reemplazando al Al (históricamente el interconector dominante). La formación de capas finas de Cu, continuas y libres de huecos es esencial para la fabricación de interconectores de Cu en microelectrónica. El presente trabajo versa sobre el comportamiento electroquímico de los clorocomplejos de cobre y la electrodeposición de Cu metálico, en un líquido iónico rico en cloruros, cloruro de 1-butil-3-metilimidazolio (BMIMCl), sobre un electrodo de Pt a 343, 353 and 363 K.
Patrocinador: Ministerio de Ciencia e Innovación (España), Proyecto CTQ2010-19912, y Junta de Castilla y León proyecto VA171U14
Idioma: spa
URI: http://uvadoc.uva.es/handle/10324/25889
Derechos: info:eu-repo/semantics/openAccess
Aparece en las colecciones:DEP60 - Comunicaciones a congresos, conferencias, etc.

Ficheros en este ítem:
Fichero Descripción TamañoFormato 
01_Abstract Cu_Veracruz.pdf260,44 kBAdobe PDFThumbnail
Visualizar/Abrir


Los ítems de UVaDOC están protegidos por copyright, con todos los derechos reservados, a menos que se indique lo contrario.

Comentarios
Universidad de Valladolid
Powered by MIT's. DSpace software, Version 5.5