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Please use this identifier to cite or link to this item: http://uvadoc.uva.es/handle/10324/25889
Title: Comportamiento electroquímico del Cu en el líquido iónico cloruro de 1-butil-3-metil-imidazolio (BMIMCl) sobre Pt. Electrodeposición de películas nanocristalinas de cobre.
Authors: Barrado, Enrique
Hernández, Prisciliano
Rodríguez, José Antonio
Castrillejo, Yolanda
Conference: 8th Meeting of the Mexican Section ECS. VERACRUZ. MEXICO. JULIO 2015
Issue Date: 2015
Description: Producción Científica
Citation: 8th Meeting of the Mexican Section ECS. VERACRUZ. MEXICO. JULIO 2015
Abstract: El cobre juega un papel estratégico en electrónica, particularmente en la fabricación de circuitos impresos y en las interconexiones entre circuitos, en las cuales el Cu ha ido reemplazando al Al (históricamente el interconector dominante). La formación de capas finas de Cu, continuas y libres de huecos es esencial para la fabricación de interconectores de Cu en microelectrónica. El presente trabajo versa sobre el comportamiento electroquímico de los clorocomplejos de cobre y la electrodeposición de Cu metálico, en un líquido iónico rico en cloruros, cloruro de 1-butil-3-metilimidazolio (BMIMCl), sobre un electrodo de Pt a 343, 353 and 363 K.
Sponsor: Ministerio de Ciencia e Innovación (España), Proyecto CTQ2010-19912, y Junta de Castilla y León proyecto VA171U14
Language: spa
URI: http://uvadoc.uva.es/handle/10324/25889
Rights: info:eu-repo/semantics/openAccess
Appears in Collections:DEP60 - Comunicaciones a congresos, conferencias, etc.

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