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    Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:http://uvadoc.uva.es/handle/10324/33729

    Título
    {001} loops in silicon unraveled
    Autor
    Marqués Cuesta, Luis AlbertoAutoridad UVA Orcid
    Aboy Cebrián, MaríaAutoridad UVA Orcid
    Ruiz Prieto, Manuel
    Santos Tejido, IvánAutoridad UVA Orcid
    López Martín, PedroAutoridad UVA Orcid
    Pelaz Montes, María LourdesAutoridad UVA Orcid
    Año del Documento
    2019
    Editorial
    Elsevier
    Descripción
    Producción Científica
    Documento Fuente
    Acta Materialia, 2019, Volume 166, Pages 192-201
    Resumen
    By using classical molecular dynamics simulations and a novel technique to identify defects based on the calculation of atomic strain, we have elucidated the detailed mechanisms leading to the anomalous generation and growth of {001} loops found after ultra-fast laser annealing of ion-implanted Si. We show that the building block of the {001} loops is the very stable Arai tetra-interstitial [N. Arai, S. Takeda, M. Kohyama, Phys. Rev. Lett. 78, 4265 (1997)], but their growth is kinetically prevented within conventional Ostwald ripening mechanisms under standard processing conditions. However, our simulations predict that at temperatures close to the Si melting point, Arai tetra-interstitials directly nucleate at the boundaries of fast diffusing self-interstitial agglomerates, which merge by a coalescence mechanism reaching large sizes in the nanosecond timescale. We demonstrate that the crystallization of such agglomerates into {001} loops and their subsequent growth is mediated by the tensile and compressive strain fields that develop concurrently around the loops. We also show that further annealing produces the unfaulting of {001} loops into perfect dislocations. Besides, from the simulations we have fully characterized the {001} loops, determining their atomic structure, interstitial density and formation energy.
    Palabras Clave
    Silicio
    Dinámica molecular
    Tratamiento láser
    Silicon
    Molecular dynamics
    Laser treatment
    Revisión por pares
    SI
    DOI
    10.1016/j.actamat.2018.12.052
    Patrocinador
    Ministerio de Ciencia e Innovación (Project TEC2014-60694-P)
    Junta de Castilla y León (programa de apoyo a proyectos de investigación - Ref. VA119G18)
    Version del Editor
    https://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1359645418310036
    Propietario de los Derechos
    © 2018 Elsevier
    Idioma
    eng
    URI
    http://uvadoc.uva.es/handle/10324/33729
    Derechos
    openAccess
    Aparece en las colecciones
    • DEP22 - Artículos de revista [65]
    • Electrónica - Artículos de revista [33]
    Mostrar el registro completo del ítem
    Ficheros en el ítem
    Nombre:
    2019_Marques_ActaMaterialia_166.pdf
    Tamaño:
    1.021Mb
    Formato:
    Adobe PDF
    Thumbnail
    Visualizar/Abrir

    Universidad de Valladolid

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