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Fabrication, characterization and modeling of TiN/Ti/HfO2/W memristors: programming based on an external capacitor discharge	130

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septiembre 2024	7
octubre 2024	13
noviembre 2024	3
diciembre 2024	7
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Canadá	2
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Singapore	4
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Santa Clara	2
Melbourne	2
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Central	1
London	1
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Ashburn	2