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Defect formation during chlorine-based dry etching and their effects on the electronic and structural properties of InP/InAsP quantum wells	740

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Defect formation during chlorine-based dry etching and their effects on the electronic and structural properties of InP/InAsP quantum wells	130

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	Visitas
Outubro 2025	22
Novembro 2025	18
Dezembro 2025	23
Janeiro 2026	13
Fevereiro 2026	17
Março 2026	22
Abril 2026	15

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Outubro 2025

8
Novembro 2025

9
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7
Janeiro 2026

9
Fevereiro 2026

20
Março 2026

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Abril 2026

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Principais visualizações por país

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Estados Unidos	39
China	27
Brasil	9
Espanha	6
Hong Kong, Região Admin. Especial da China	5
Índia	4
Alemanha	4
Vietnã	3
Cingapura	3
Argentina	2

Países con más descargas

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Estados Unidos	24
China	8
Hong Kong, Região Admin. Especial da China	8
Cingapura	4
Índia	1
Brasil	1

Principais visualizações por cidade

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Central	5
Valladolid	4
San Francisco	4
Beijing	3
Los Angeles	3
Ashburn	3
Frankfurt am Main	2
Baghdad	1
Berkhamsted	1
Bilbao	1

Ciudades con más descargas

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Central	8
Ashburn	1
Beijing	1
Los Angeles	1