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    AutorCastán Lanaspa, María Helena (9)Dueñas Carazo, Salvador (9)
    Kukli, Kaupo (9)
    Seemen, Helina (7)Tamm, Aile (6)... másFecha
    2018 (9)
    Formatoapplication/pdf (9)... más
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    Memory maps : Reading RRAM devices without power consumption 

    Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Kukli, Kaupo; Mikkor, Mats; Kalam, Kristjan; Arroval, T.; Tamm, Aile (2018)
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    Resistive switching properties of atomic layer deposited ZrO2-HfO2 thin films 

    González Ossorio, ÓscarAutoridad UVA; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Tamm, Aile; Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Kukli, Kaupo (2018)
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    Study of the influence of the dielectric composition of Al/Ti/ZrO2 : Al2O3/TiN/Si/Al structures on the resistive switching behavior for memory applications 

    Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Kukli, Kaupo; Kemell, Marianna; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku (2018)
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    The role of defects in the resistive switching behavior of Ta2O5-TiO2-based metal–insulator–metal (MIM) devices for memory applications 

    Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; García García, HéctorAutoridad UVA; González Ossorio, ÓscarAutoridad UVA; Domínguez, Leidy Azucena; Seemen, Helina; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan (2018)
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    Atomic layer deposition and properties of ZrO2/Fe2O3 thin films 

    Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Ritslaid, Peeter; Rähn, Mihkel; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo; Kasikov, Aarne; Link, Joosep; Stern, Raivo; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; García García, HéctorAutoridad UVA (2018)
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    Properties of atomic layer deposited nanolaminates of zirconium and cobalt oxides 

    Seemen, Helina; Rähn, Mihkel; Kalam, Kristjan; Sajavaara, Timo; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Link, Joosep; Stern, Raivo; Kukli, Kaupo; Tamm, Aile (2018)
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    Electric and magnetic properties of atomic layer deposited ZrO2-HfO2 thin films 

    Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Mikkor, Mats; Ritslaid, Peeter; Stern, Raivo; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo (2018)
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    Atomic layer deposition and properties of HfO2-Al2O3 nanolaminates 

    Kukli, Kaupo; Kemell, Marianna; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Seemen, Helina; Rähn, Mihkel; Link, Joosep; Stern, Raivo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku (2018)
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    Atomic layer deposition and performance of ZrO2-Al2O3 thin films 

    Kukli, Kaupo; Kemell, Marianna; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Seemen, Helina; Rähn, Mihkel; Link, Joosep; Stern, Raivo; Heikkilä, Mikko J.; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku (2018)

    Universidad de Valladolid

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