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    Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:http://uvadoc.uva.es/handle/10324/44665

    Título
    Atomic layer deposition and properties of HfO2-Al2O3 nanolaminates
    Autor
    Kukli, Kaupo
    Kemell, Marianna
    Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA Orcid
    Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA Orcid
    Seemen, Helina
    Rähn, Mihkel
    Link, Joosep
    Stern, Raivo
    Ritala, Mikko
    Leskelä, Markku
    Año del Documento
    2018
    Editorial
    IOP Publishing
    Descripción
    Producción Científica
    Documento Fuente
    ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2018, vol. 7, n. 9. p. 501-508
    Abstract
    Nanocrystalline HfO2:Al2O3 mixture films and nanolaminates were grown by atomic layer deposition at 350°C from metal chloride precursors and water. Formation of metastable HfO2 polymorphs versus monoclinic phase was affected by the relative amount and thickness of constituent oxide layers. The films exhibited saturative magnetization and charge polarization in externally applied fields at room temperature. The films also demonstrated resistive switching behavior with considerable window between low and high resistance states.
    Palabras Clave
    Metal oxides
    Óxidos metálicos
    Nanolaminates
    Nanoláminas
    Atomic layer deposition
    Deposición atómica de capas
    ISSN
    2162-8777
    Revisión por pares
    SI
    DOI
    10.1149/2.0261809jss
    Patrocinador
    Fondo Europeo de Desarrollo Regional (project TK134)
    Ministerio de Economía, Industria y Competitividad (grant TEC2014-52152-C3-3-R)
    Estonian Research Agency (grants IUT2-24, IUT23-7 and PRG4)
    Version del Editor
    https://iopscience.iop.org/article/10.1149/2.0261809jss
    Propietario de los Derechos
    © 2018 IOP Publishing
    Idioma
    eng
    URI
    http://uvadoc.uva.es/handle/10324/44665
    Tipo de versión
    info:eu-repo/semantics/publishedVersion
    Derechos
    openAccess
    Aparece en las colecciones
    • GCME - Artículos de revista [57]
    Mostra tutti i dati dell'item
    Files in questo item
    Nombre:
    Atomic-layer-deposition-properties.pdf
    Tamaño:
    890.8Kb
    Formato:
    Adobe PDF
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    Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 InternacionalLa licencia del ítem se describe como Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional

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