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Effective control of filament efficiency by means of spacer HfAlOx layers and growth temperature in HfO2 based ReRAM devices	220

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mayo 2024	9
junio 2024	11
julio 2024	17
agosto 2024	19
septiembre 2024	8
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mayo 2024

9
junio 2024

8
julio 2024

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agosto 2024

5
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Singapur	25
Rusia	4
España	2
Australia	2
Canadá	1
China	1
Francia	1
Indonesia	1
India	1

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Estados Unidos	26
China	2
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Singapur	1

Ciudades con más visualizaciones

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Ashburn	17
Singapore	16
Boardman	4
Houston	3
Melbourne	2
Santa Clara	2
Valladolid	2
Indianola	2
Canyon Country	1
Jakarta	1

Ciudades con más descargas

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Ashburn	4
Singapore	1
Santa Clara	1
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