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Effective control of filament efficiency by means of spacer HfAlOx layers and growth temperature in HfO2 based ReRAM devices596

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octubre 202518
noviembre 202511
diciembre 20257
enero 202636
febrero 202625
marzo 202625
abril 202641
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  • octubre 2025
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  • noviembre 2025
    35
  • diciembre 2025
    4
  • enero 2026
    7
  • febrero 2026
    4
  • marzo 2026
    4
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China23
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Estados Unidos55
China11
Brasil2
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España1
India1
Reino Unido1

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Ho Chi Minh City5
San Jose4
Valladolid4
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Beijing3
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Kathmandu2
Los Angeles2

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Beijing6
Ashburn2
San Jose1