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Effective control of filament efficiency by means of spacer HfAlOx layers and growth temperature in HfO2 based ReRAM devices	198

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febrero 2024	8
marzo 2024	3
abril 2024	4
mayo 2024	9
junio 2024	11
julio 2024	17
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febrero 2024

6
marzo 2024

7
abril 2024

1
mayo 2024

9
junio 2024

8
julio 2024

11
agosto 2024

3
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Países con más visualizaciones

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Estados Unidos	39
Singapur	17
China	3
Rusia	2
Bélgica	2
Austria	1
Australia	1
Reino Unido	1
Indonesia	1
India	1

Países con más descargas

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Estados Unidos	26
China	3
Rusia	1
Reino Unido	1
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Ciudades con más visualizaciones

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Ashburn	20
Singapore	12
Indianola	3
Houston	3
Santa Clara	2
Brussels	2
Canyon Country	1
Jakarta	1
London	1
Melbourne	1

Ciudades con más descargas

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Ashburn	6
Santa Clara	1
Jakarta	1