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Effective control of filament efficiency by means of spacer HfAlOx layers and growth temperature in HfO2 based ReRAM devices597

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octobre 202518
novembre 202511
décembre 20257
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février 202625
mars 202625
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  • octobre 2025
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Consultations : palmarès par pays

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Etats-Unis49
Chine23
Brésil13
Vietnam11
Singapour7
Inde4
Espagne4
Royaume-Uni3
Japon3
Afrique du Sud3

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Etats-Unis55
Chine11
Brésil2
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Inde1
Royaume-Uni1

Consultations : palmarès par ville

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Ho Chi Minh City5
San Jose4
Valladolid4
Hanoi4
Singapore3
Tokyo3
Beijing3
Ashburn2
Kathmandu2
Los Angeles2

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Beijing6
Ashburn2
San Jose1