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Título
Estudio de la Termodinámica de mecanismos de SET y RESET en memristores de conmutación resistiva
Director o Tutor
Año del Documento
2025
Titulación
Máster en Semiconductores y Tecnologías Electrónicas
Resumen
Actualmente, uno de los mayores retos que quedan por superar en el área de la
computación es el cuello de botella de Von Neumann. Una de las posibles soluciones
que se está investigando son las memorias RRAM las cuales, gracias a la conmutación
resistiva, son capaces de funcionar como memorias no volátiles y presentan otras
múltiples aplicaciones. Esto las dota de gran interés y, consecuentemente, constituyen
el foco de este trabajo.
Con el objetivo de investigar estos dispositivos, se han caracterizado tres muestras
diferentes: Óxido de hafnio (HfO2), óxido de aluminio (Al2O3) y una bicapa de HfO2/Al2O3.
Este estudio consiste en las siguientes medidas, a partir de las cuales se ha analizado y
comparado el comportamiento de estos dispositivos: curvas I-V, histerones, robustez,
lazos anidados, lazos acumulados, histerones anidados y transitorios de corriente. Los
transitorios se han ajustado a un modelo para describir y comparar con mayor precisión
las transiciones de RESET. Además, para alcanzar una mayor comprensión de los
mecanismos de conducción y para estudiar los efectos de la temperatura en ciertos
parámetros, se han presentado las anteriores medidas a diferentes temperaturas.
Mediante la interpretación de todos estos resultados se han determinado las posibles
aplicaciones de estas muestras. Currently, one of the biggest challenges in computing that remains to be solved is Von
Neumann’s bottleneck. One of the possible solutions which are being investigated is
RRAM memories which, thanks to resistive switching, can operate as non-volatile
memories and could be implemented for several other applications. This makes them of
great interest and therefore they constitute the purpose of this work.
In an effort to investigate these devices, three different samples have been
characterized: Hafnium oxide (HfO2), aluminum oxide (Al2O3) and a bilayer of HfO2/Al2O3.
This research comprises the following measurements from which the behavior of these
devices has been analyzed and compared: I-V curves, hysterons, endurance, nested
cycles, accumulated cycles, nested hysterons and current transients. The current
transients have been fitted to a model to describe and compare RESET transitions more
precisely. In addition, to achieve a greater comprehension of their conduction
mechanisms as well as to study the effects of temperature in certain parameters, the
previous measurements at different temperatures have been presented. Through the
interpretation of all of these results the possible applications of these samples have been
determined.
Palabras Clave
Memristores
Conmutación resistiva
Memorias no volátiles
Departamento
Departamento de Electricidad y Electrónica
Idioma
spa
Derechos
openAccess
Aparece en las colecciones
- Trabajos Fin de Máster UVa [7255]
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