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    AutorCastán Lanaspa, María Helena (12)
    Dueñas Carazo, Salvador (12)
    Kalam, Kristjan (12)
    Kukli, Kaupo (12)Tamm, Aile (11)... másFecha2022 (2)2021 (1)2019 (1)2018 (5)2017 (3)Formatoapplication/pdf (12)... más
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    Effect of dielectric thickness on resistive switching polarity in TiN/Ti/HfO2/Pt stacks 

    Vinuesa Sanz, GuillermoAutoridad UVA; García García, HéctorAutoridad UVA; Bargalló González, Mireia; Kalam, Kristjan; Zabala, Miguel; Tarre, Aivar; Kukli, Kaupo; Tamm, Aile; Campabadal Segura, Francesca; Jiménez López, Juan IgnacioAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA (2022)
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    Memory effects in nanolaminates of hafnium and iron oxide films structured by atomic layer deposition 

    Kalam, Kristjan; Otsus, Markus; Kozlova, Jekaterina; Tarre, Aivar; Kasikov, Aarne; Rammula, Raul; Link, Joosep; Stern, Raivo; Vinuesa Sanz, GuillermoAutoridad UVA; Lendínez Sánchez, José Miguel; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo (2022)
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    Atomic layer deposited nanolaminates of zirconium oxide and manganese oxide from manganese(III)acetylacetonate and ozone 

    Kalam, Kristjan; Rammula, Raul; Ritslaid, Peeter; Käämbre, Tanel; Link, Joosep; Stern, Raivo; Vinuesa Sanz, GuillermoAutoridad UVA; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo (2021)
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    Electrical and magnetic properties of atomic layer deposited cobalt oxide and zirconium oxide nanolaminates 

    Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Mikkor, Mats; Jõgiaas, Taivo; Ritslaid, Peeter; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo; Kasikov, Aarne; Link, Joosep; Stern, Raivo; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA (2019)
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    Memory maps : Reading RRAM devices without power consumption 

    Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Kukli, Kaupo; Mikkor, Mats; Kalam, Kristjan; Arroval, T.; Tamm, Aile (2018)
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    Resistive switching properties of atomic layer deposited ZrO2-HfO2 thin films 

    González Ossorio, ÓscarAutoridad UVA; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Tamm, Aile; Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Kukli, Kaupo (2018)
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    Atomic layer deposition and properties of ZrO2/Fe2O3 thin films 

    Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Ritslaid, Peeter; Rähn, Mihkel; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo; Kasikov, Aarne; Link, Joosep; Stern, Raivo; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; García García, HéctorAutoridad UVA (2018)
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    Properties of atomic layer deposited nanolaminates of zirconium and cobalt oxides 

    Seemen, Helina; Rähn, Mihkel; Kalam, Kristjan; Sajavaara, Timo; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Link, Joosep; Stern, Raivo; Kukli, Kaupo; Tamm, Aile (2018)
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    Electric and magnetic properties of atomic layer deposited ZrO2-HfO2 thin films 

    Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Mikkor, Mats; Ritslaid, Peeter; Stern, Raivo; Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo (2018)
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    Admittance memory cycles of Ta2O5-ZrO2-based RRAM devices 

    Dueñas Carazo, SalvadorAutoridad UVA; Castán Lanaspa, María HelenaAutoridad UVA; González Ossorio, ÓscarAutoridad UVA; Domínguez, Leidy Azucena; García García, HéctorAutoridad UVA; Kalam, Kristjan; Kukli, Kaupo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku (2017)
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    Universidad de Valladolid

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