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Título
Estudio de los mecanismos de conducción presentes en estructuras RRAM de óxido de hafnio
Autor
Director o Tutor
Año del Documento
2024
Titulación
Máster en Física
Resumen
Debido a que estamos cada vez más cerca de alcanzar el límite tecnológico en el ámbito de la
computación (con la tecnología actual de transistores), se han explorado otras tecnologías, entre
las que destacan los memristores o memorias resistivas (RRAM), las cuales poseen una serie
de características muy útiles para su aplicación en computación neuromórfica. En este trabajo
analizaremos en profundidad los mecanismos de conducción subyacentes al fenómeno de resistive
switching. Para ello, caracterizaremos una muestra TiN/Ti/10nm – HfO2/W en un gran rango
de temperaturas, analizando la dependencia de la corriente que atraviesa el dispositivo con el
voltaje aplicado y con la temperatura.
Palabras Clave
Resistive switching
Óxido de hafnio
Departamento
Departamento de Electricidad y Electrónica
Idioma
spa
Derechos
openAccess
Aparece en las colecciones
- Trabajos Fin de Máster UVa [6579]
Ficheros en el ítem
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