• español
  • English
  • français
  • Deutsch
  • português (Brasil)
  • italiano
    • español
    • English
    • français
    • Deutsch
    • português (Brasil)
    • italiano
    • español
    • English
    • français
    • Deutsch
    • português (Brasil)
    • italiano
    JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

    Listar

    Todo UVaDOCComunidadesPor fecha de publicaciónAutoresMateriasTítulos

    Mi cuenta

    Acceder

    Estadísticas

    Ver Estadísticas de uso

    Compartir

    Ver ítem 
    •   UVaDOC Principal
    • TRABAJOS FIN DE ESTUDIOS
    • Trabajos Fin de Máster UVa
    • Ver ítem
    •   UVaDOC Principal
    • TRABAJOS FIN DE ESTUDIOS
    • Trabajos Fin de Máster UVa
    • Ver ítem
    • español
    • English
    • français
    • Deutsch
    • português (Brasil)
    • italiano

    Exportar

    RISMendeleyRefworksZotero
    • edm
    • marc
    • xoai
    • qdc
    • ore
    • ese
    • dim
    • uketd_dc
    • oai_dc
    • etdms
    • rdf
    • mods
    • mets
    • didl
    • premis

    Citas

    Por favor, use este identificador para citar o enlazar este ítem:https://uvadoc.uva.es/handle/10324/71181

    Título
    Estudio de los mecanismos de conducción presentes en estructuras RRAM de óxido de hafnio
    Autor
    Boo Alvarez, Jonathan
    Director o Tutor
    Vinuesa Sanz, GuillermoAutoridad UVA
    García García, HéctorAutoridad UVA
    Editor
    Universidad de Valladolid. Facultad de CienciasAutoridad UVA
    Año del Documento
    2024
    Titulación
    Máster en Física
    Resumen
    Debido a que estamos cada vez más cerca de alcanzar el límite tecnológico en el ámbito de la computación (con la tecnología actual de transistores), se han explorado otras tecnologías, entre las que destacan los memristores o memorias resistivas (RRAM), las cuales poseen una serie de características muy útiles para su aplicación en computación neuromórfica. En este trabajo analizaremos en profundidad los mecanismos de conducción subyacentes al fenómeno de resistive switching. Para ello, caracterizaremos una muestra TiN/Ti/10nm – HfO2/W en un gran rango de temperaturas, analizando la dependencia de la corriente que atraviesa el dispositivo con el voltaje aplicado y con la temperatura.
    Palabras Clave
    Resistive switching
    Óxido de hafnio
    Departamento
    Departamento de Electricidad y Electrónica
    Idioma
    spa
    URI
    https://uvadoc.uva.es/handle/10324/71181
    Derechos
    openAccess
    Aparece en las colecciones
    • Trabajos Fin de Máster UVa [7002]
    Mostrar el registro completo del ítem
    Ficheros en el ítem
    Nombre:
    TFM-G1935.pdf
    Tamaño:
    4.681Mb
    Formato:
    Adobe PDF
    Thumbnail
    Visualizar/Abrir
    Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 InternacionalLa licencia del ítem se describe como Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 Internacional

    Universidad de Valladolid

    Powered by MIT's. DSpace software, Version 5.10